采購型號：卓水越ZYUP系列電子級超純水系統 ZYUP-DEH–1000L

采購單位：西安天交華羿光電有限公司

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電子級超純水系統概述：

當今半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規模、超大規模集成電路需要大量的純水、超純水清洗成品、半成品。集成電路的集成度越高，線(xiàn)寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級超純水為四個(gè)等級，分別為EW-I級≥18MΩ·cm，全硅≤2ug/L、EW-II級≥15MΩ·cm，全硅≤10ug/L，EW-III級≥12MΩ·cm，全硅≤50ug/L、EW級≥0.5MΩ·cm，全硅≤100ug/L 以區分不同的電子級超純水水質(zhì)。其中對于超純水關(guān)鍵的指標如：電導率（電阻率）、總硅、PH值、顆粒度、微生物等均由不同的要求。因此線(xiàn)路板、電路板使用純水、超純水因為本身工藝流程的不同對超純水制造的工藝也不同。

電子級超純水系統工藝流程：

1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)

2、預處理系統→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)

3、預處理系統→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥17MΩ.CM)

4、預處理系統→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)

5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線(xiàn)殺菌器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn) (≥15MΩ.CM)

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電子級超純水系統設備特點(diǎn)：

電子半導體超純水系統通常直接接入國家自來(lái)水標準的水為源水，通常有多介質(zhì)過(guò)濾器，活性炭過(guò)濾器，精密過(guò)濾器等構成預處理系統，另有RO反滲透主機系統，離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等構成主要設備系統。系統水箱設有液位控制系統、水泵設有高低壓壓力保護裝置、在線(xiàn)水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用模塊化組合PLC，及通信遠程輸送至中控室上位機，實(shí)現現場(chǎng)就地和集中控制兩種操作方式，降低了人工的操作復雜度和維護工作量等，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶(hù)要求相統一的方法，或者公司可按照客戶(hù)對于水質(zhì)的要求進(jìn)行特殊定制，既能保證用水水質(zhì)達標，同時(shí)降低了所需成本，使該設備與其他同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設備可靠性

電子級超純水系統適用領(lǐng)域：

1、電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗

2、電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

3、顯像管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)、配料用純水

4、黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

5、液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液

6、晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

7、集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片

8、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

9、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

10、高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)

11、半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗

13、超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料